半導体・電子部品関連

窒素酸化物(NOx)は、ボイラー、燃焼炉、自動車排ガス(移動発生源)等の燃焼と、金属と硝酸との反応等により生成されます。大気環境では、ほとんどNOとNO2として存在しており、大気汚染物質の為、酸性雨、光化学スモッグの原因物質となっています。
窒素酸化物(NOx)の処理には酸化-還元方式の湿式処理が採用されています。NOを酸化剤でNO2に酸化、さらに還元剤でN2まで還元する２塔充填塔方式となります。

（半導体業界での導入事例）
半導体シリコンウエハー製造工程から出るガス（NOx処理）、インゴットの切断からエッチング、鏡面研磨加工時に HF+HNO3 を洗浄液として使用した時に発生するNOx ガス処理用として導入。