導入事例 - 半導体・電子部品関連
窒素酸化物(NOx)は、ボイラー、燃焼炉、自動車排ガス(移動発生源)等の燃焼と、金属と硝酸との反応等により生成されます。大気環境では、ほとんどNOとNO2として存在しており、大気汚染物質の為、酸性雨、光化学スモッグの原因物質となっています。
窒素酸化物(NOx)の処理には酸化-還元方式の湿式処理が採用されています。
NOを酸化剤でNO2に酸化、さらに還元剤でN2まで還元する２塔充填塔方式となります。
NOを酸化剤でNO2に酸化、さらに還元剤でN2まで還元する２塔充填塔方式となります。
半導体・電子部品分野での導入事例
半導体シリコンウエハー製造工程から出るガス（NOx処理）、インゴットの切断からエッチング、鏡面研磨加工時に HF+HNO3 を洗浄液として使用した時に発生するNOx ガス処理用として導入。
耐蝕ポンプ
- シリコンウエハーの酸洗浄廃液やエッチング廃液移送用
- 電解コンデンサー用エッチングアルミ箔の製造工程（塩酸）
- 合成石英の製造工程（弗酸）
- 液晶の偏光板製造工程（ヨウ素、ホウ酸）
- 電解銅箔の電解液移送工程（硫酸銅）
耐蝕送風機
- 電解コンデンサー用エッチングアルミ箔の製造工程（塩酸）からの排ガス
- シリコンウエハーの酸洗工程やエッチング工程からの排ガス
- 合成石英の製造工程（弗酸）
環境装置
- 電解コンデンサー用エッチングアルミ箔の製造工程（塩酸）からの排ガス
- 電解コンデンサー用エッチングアルミ箔の製造工程（塩酸）からの排ガス
- 合成石英の製造工程（弗酸）
- 特殊ガス(SiCL4,SiHCL3,SiH2CL2)
